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產(chǎn)品中心
脫模劑

技術(shù)參數(shù)

貨號

平均粒徑(nm

純度(%

比表面積(m2/g

體積密度(g/cm3

密度(g/cm3

晶型

顏色

ST-TM-001

800

>99.99

8

1.3

2.9

α

灰白色

備注:根據(jù)用戶要求可提供不同粒度的產(chǎn)品。

應(yīng)用方向

    主要應(yīng)用于多晶硅和單晶熔煉過程中,石英坩堝脫模用。多晶硅和單晶硅生產(chǎn)時,在原料熔化、晶體生長過程中,硅熔體和坩堝長時間接觸會產(chǎn)生黏滯性。由于兩種材料的熱膨脹系數(shù)不同,如果硅材料和坩堝壁結(jié)合緊密,在晶體冷卻時很可能造成晶體硅或坩堝破裂。而硅熔體和坩堝的長時間接觸還會造成陶瓷坩堝的腐蝕,使多晶硅中的氧濃度升高。為了解決這些問題,國外工藝上一般采用高純氮化硅材料作為涂層附在坩堝的內(nèi)壁,隔離硅熔體和坩堝的直接接觸,不僅解決了黏滯問題,而且可以降低多晶硅中的氧、炭等雜質(zhì)濃度。利用定向凝固技術(shù)生長的鑄造多晶硅,多數(shù)情況下坩堝是消耗品,不能重復(fù)循環(huán)使用,即每爐多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩堝。采用氮化硅涂層后可使石英陶瓷坩堝得到重復(fù)使用,大幅度降低生產(chǎn)成本我公司根據(jù)多晶硅和單晶硅生產(chǎn)工藝特點,開發(fā)銷售了石英坩堝專用脫膜劑及相關(guān)噴涂工藝。高純氮化硅脫模劑粒度在0.5-1.2微米之間,可以有效地解決在涂層高溫固化過程中的氧化問題,使多晶硅和單晶硅的純度獲得大幅度提高,其粉末的純度可達(dá)99.99%以上,可用作光伏工業(yè)中熔煉多晶硅鑄錠的石英坩堝涂層材料。可有效防止坩堝內(nèi)壁與熔融硅料粘接,方便脫模,同時起到阻隔層作用,保證硅錠純度。與納米氮化硅或其他類型脫模劑相比,具有優(yōu)異的抗氧化性能,確保生產(chǎn)過程中碳、氧等雜質(zhì)濃度獲得有效控制。產(chǎn)品純度高,粒度均勻,性能上完全可與國外同類產(chǎn)品相比較,目前已實現(xiàn)批量化生產(chǎn)。因此可以解決目前國內(nèi)的石英坩堝涂層粉完全依賴日本UBE、德國Starck等進(jìn)口,且有較大成本優(yōu)勢。

貯存條件
    本品應(yīng)密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜長久暴露于空氣中,防受潮發(fā)生團聚,影響分散性能和使用效果,另應(yīng)避免重壓,勿與氧化劑接觸,按照普通貨物運輸。

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